箱式气氛炉技术特征
箱式气氛炉技术特征：
1.采用特殊的高温红外测量技术，温度控制准确，误差小。
2，采用特殊的废气处理装置，环保，易清洗。
3，采用电阻加热，设定温区补偿或多区温度控制，温度均匀性好。
4.采用科技*的超高温大电流上电技术，可在2400°c的温度下*稳定使用。
5，可选配脱脂系统，实现陶瓷产品脱脂和烧结的一次性处理。
6.炉子配有的密封马弗炉。 产品生产的硅蒸汽等副产品对加热器和绝缘材料几乎没有污染。、
箱式气氛炉适用于在高压氮气氛中烧结诸如氮化硅的材料。 有利的是提高材料的烧结密度并改善材料的机械性能。 压力烧结炉具有优异的微观结构，强度和密度。 可实现连续差压脱脂，真空烧结和压力烧结工艺; 具有气氛调节功能，炉内气氛稳定，产品质量易于控制; 炉内分压控制实现恒压烧结。
气氛炉可手动控制烧制过程，如手动控制温升，降温，充放电等参数，确保氮化硅的质量和数量。 为了降低劳动力成本，氮化硅反应器的用户可以使用自动烧结工艺自动生成氮化硅。
气氛炉是于氮化硅反应烧制的真空电炉。 氮化硅烧结炉由电炉体，加热系统，升降系统，冷却系统，充放电系统和电控系统组成。 氮化硅反应器由炉内温度，充放电气体的类型和速度，炉中的比例和游离硅的量反映形成氮化硅。 氮化硅是一种具有良好性能的新型材料。
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