激光直写制作光刻掩膜板绘图容易出现哪些错误
dlw-rd-photonics是一款专为光子芯片集成领域设计的高性能激光直写设备，拥有高精度纳米级3d加工能力与高精度定位对准能力。设备配备高精度的共聚焦扫描系统和荧光探测系统，确保在光子芯片表面精确对准3d打印。nanostudio软件配备功率补偿功能，可实现在芯片端面的高精度加工，消除聚焦遮挡区域的影响，为光子芯片集成领域的微细结构提供精准打印。制作光刻版的工艺流程：
a、绘制版图文件；
b、转图，生成设备可曝光的文件格式，曝光图形；
c、显影，露出铬层；
d、蚀刻，使用cr蚀刻液湿法腐蚀；
e、使用湿法去除光刻掩膜版上的光刻胶层，并清洗甩干。
常见绘图错误：
a、无填充；
b、图形不封闭、
c、有多余线段；
d、字符无宽度；
e、图形合并错误；
f、隐藏图层；
g、弧线不圆滑；
h、圆形图案曝光出错；
i、文件数据量过大等，都会造成图档转换失败，或者图档虽然转换成功，但是设备有一定几率发生错误曝光，导致制版失败、甚至造成设备电脑死机等严重问题，为避免问题的发生概率，请认真学习软件的使用规则和版图设计要求。
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