半导体超纯水制备工艺
超纯水是什么水?
超纯水是一种高度纯净的水，它是普通的水去除掉矿物质、微粒、细菌、微生物和溶解气体后得到的一种水。它也被称为“去离子水”,意味着离子成分已被*去除。
生产半导体需经过8个主要流程。超纯水主要用于半导体制造过程中一些工艺前后的清洗操作。比如蚀刻工艺后，对晶圆进行切割，并使用超纯水清洗残留的碎片;或者,在离子注入工艺后，清洗残留离子。另外，超纯水也用于晶圆拋光或晶圆切割。
超纯水在半导体工艺中的作用是什么?
处理纳米级超精细工艺的半导体时，如果在各种工艺前后,残留某个小颗粒,便会引起错误。因此，在各种工艺前后使用超纯水清洗晶圆，可确保清洁度，从而提升半导体生产率(产量)。
超纯水是如何制取的?
传统的超纯水制取工艺是采用阴阳树脂交换设备，该工艺的缺点在于树脂在使用一段时间以后要经常再生。随着膜分离技术的不断成熟，采用反渗透工艺，或是采用反渗透后面再经过edi及抛光混床工艺来制取超纯水，出水电导率可达18.2mω，满足了芯片行业的用水需求。
超纯水设备能连续稳定地制备出高质量的超纯水，不会因树脂再生而停止运行。设备的结构设计比较紧凑，占地面积很小，可以为企业节省大量空间。设备出厂前需要进行检验，设备故障概率小，日常维护和维修操作非常简单。
关键词：芯片 超纯水设备
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