等离子清洗设备可根据污染物的类型采用不同的清洗方法
等离子清洗是通过化学和物理作用从分子层(一般厚度为3~30nm)中去除污染物，提高工件表面活性的技术。所去除的污染物可能是有机物，环氧树脂，光刻胶，氧化物，微粒污染物等。电浆处理可以根据污染物的类型采用不同的清洗方法。
1、灰化表面有机层
污染物在真空和瞬时高温下蒸发，被高能离子粉碎，从真空中排出。
uv辐射破坏污染物，等离子处理每秒只能穿透几纳米，所以污染层不厚。指纹也适用。
2、氧化物去除
这一过程包括使用氢气或氢气和氩气的混合物。有时也可以采用两步法。首先把表面氧化5分钟，然后用氢气，氩气的混合物去除氧化。各种气体也可同时进行处理。
3、焊接
一般情况下，印刷电路板焊接前应使用化学药剂。这些化学物质必须在焊接后用等离子法去除，否则会导致腐蚀等问题。
等离子清洗设备的原理是：真空状态下，压强减小，分子间的距离增大，分子间的作用力减小，利用射频源产生的高压交变电场，将氧气、氩、氢等技术气体冲洗成反应活性高、能量大的离子，与有机污染物和微粒体污染物反应或碰撞形成挥发性物质，工作气流和真空泵去除挥发性物质，实现表面清洁活化。它是一种的剥离清洗方法，具有清洗后无废液、金属、半导体、氧化物和大多数聚合物材料处理良好、整体、局部和复杂结构清洗的优点。
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