等离子清洗机优势
等离子清洗机的优势：
1：真空度：用皮拉尼原理测量精确到pa，千帕是用压力规测试，不是一个量级的。
2：传感器：用的进口的气体流量传感器，是质量流量计检测气体，精确度是通入流量的±1.5%。浮子流量计，是满量程的4%，而且浮子球是上下浮动，手碰一下乱跑，真实效果达不了那么高。
4：功率是150w，国内都是统一的。
5：2路流量计，质量流量计采集更精准，流量控制 2个精密针阀调节，线性调节度较好。
6： 真空采集皮拉尼原理真空计，测量大气压到0.1pa的绝对真空。
7： 通过精准的流量检测及真空采集 使自动控制一气呵成，通过检测固定的真空值让射频辉光，即使是手动匹配射频电源，也只需要匹配一次，下次相同工艺，基本不需要再次调节匹配 。
问：清洗光刻胶可以吗？
答：简单的理解就是用氧气把光刻胶燃烧掉，光刻胶的基本成分是碳氢有机物，在射频或微波作用下，氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通过泵被真空抽走，完成光刻胶的去除。
问：可以去除表面杂质和一些胶嘛？
答：这个就是清洗半导体芯片表面缠杂的胶和杂质，可以去除纳米级别的微小的胶和其它颗粒或者薄膜。
问：操作方便嘛
答：操作很方便。开关打开后，石英腔体抽真空，然后产生等离子，等离子和表面的污染物产生反应，产生废气，真空泵把废气抽走，等离子清洗机里面有一个托盘，咱们把产品放托盘上面，就可以清洗了。
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7： 通过精准的流量检测及真空采集 使自动控制一气呵成，通过检测固定的真空值让射频辉光，即使是手动匹配射频电源，也只需要匹配一次，下次相同工艺，基本不需要再次调节匹配 。
问：清洗光刻胶可以吗？
答：简单的理解就是用氧气把光刻胶燃烧掉，光刻胶的基本成分是碳氢有机物，在射频或微波作用下，氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通过泵被真空抽走，完成光刻胶的去除。
问：可以去除表面杂质和一些胶嘛？
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问：操作方便嘛
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