Hakuto 离子蚀刻机 20IBE 去除印刷电路板污染物

某印刷电路板制造商采用伯东 hakuto 离子蚀刻机 20ibe-j 应用于刻蚀印刷电路板局部表面去除污染物.
hakuto 离子蚀刻机 20ibe-j 技术参数
φ4 inch x 12片
基片尺寸
φ4 inch x 12片
φ5 inch x 10片
φ6 inch x 8片
均匀性
±5%
硅片刻蚀率
20 nm/min
样品台
直接冷却,水冷
离子源
φ20cm 考夫曼离子源
hakuto 离子刻蚀机 20ibe-j 搭配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 kri考夫曼公司的射频离子源 rficp220
伯东 kri 射频离子源 rficp 220 技术参数:
离子源型号
rficp 220
discharge
rficp 射频
离子束流
>800 ma
离子动能
100-1200 v
栅极直径
20 cm φ
离子束
聚焦, 平行, 散射
流量
10-40 sccm
通气
ar, kr, xe, o2, n2, h2, 其他
典型压力
< 0.5m torr
长度
30 cm
直径
41 cm
中和器
lfn 2000
hakuto 离子蚀刻机 20ibe-j 有效针对所需区域进行蚀刻, 并避免印刷电路板全面性蚀刻产生的导线暴露于空气中发生的短路异常现象.
若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :
上海伯东 : 罗先生

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