光触媒催化设备除臭特点
uv光解氧化技能 （↑上方进入该公司展台查看电话）
光解氧化是指在必定波长光照条件下,半导体资料发生光生载流子的分离,然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,这种活性自由基能将有机物大分子降解为二氧化碳或其他小分子有机物以及水,在反响过程中这种半导体资料也便是光解剂自身不发生变化。 hjuv---系列tio2光解催化氧化设备是依据国内外废气处理设备的*技能并在多年出产光解催化氧化设备的基础上，改善的新一代tio2光解催化氧化设备， 本产品运用uv紫外线技能(波段184.9nm-253.7nm)，产生臭氧，游离活性氧离子。通过高能紫外线光破坏降解分子键及协同分化氧化反响去除有机污染物。
光触媒催化设备除臭特点
1、对产品而言-除臭：能有用去除挥发性有机化合物、无机物和各种恶臭气体除臭功率高达99%以上，除臭作用大大超过1993发出的恶臭污染物排放标准和归纳1996大气污染物排放标准
2、不增加任何资料，只需求设置相应的排气管和排气功率，使恶臭，工业废气净化、除臭分化运用该设备无需增加任何物质参与化学反响。
3、适应性强：轻氧催化剂废气处理设备可适应不同工业废气的高浓度、大体积、除臭、净化处理。可一天作业24小时，运转安稳可靠；
4、轻催化废气氧气处理无任何机械作用，无噪音，无需人员办理和日常保护，只需定时查看，本设备能耗低，设备抗风才能低，可节省很多废气；
5、体积小，重量轻，适用于紧凑和特别条件
6、设备安全安稳、不锈钢资料或pp，设备运用寿命15年以上。
7、选用技能理念，能分化工业废气中的有害有毒物质，并能到达抱负的除臭、净化作用，工业废气分化后，能够到达无害化排放，不产生二次污染。
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2、不增加任何资料，只需求设置相应的排气管和排气功率，使恶臭，工业废气净化、除臭分化运用该设备无需增加任何物质参与化学反响。
3、适应性强：轻氧催化剂废气处理设备可适应不同工业废气的高浓度、大体积、除臭、净化处理。可一天作业24小时，运转安稳可靠；
4、轻催化废气氧气处理无任何机械作用，无噪音，无需人员办理和日常保护，只需定时查看，本设备能耗低，设备抗风才能低，可节省很多废气；
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6、设备安全安稳、不锈钢资料或pp，设备运用寿命15年以上。
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