等离子清洗机的特点是它不分处理对象,可处理不同的基材,无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、据四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物)都可用等离子体很好地处理,因此,特别适合不耐热和不耐溶剂的基底材料。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。在完成清晰去污的同时,还能改变材料本身的表面性能,如提高表面的润湿性能,改善膜的附着力等,这在许多应用中都是非常重要的。
根据用途的不同,可选用多种构造的等离子清洗设备,并可通过选用不同种类的气体,调整装置的特征参数等方法使工艺流程实现合理化,但等离子清洗机装置的基本结构大致是相同的,一般装置可由真空室、真空泵、高频电源、电极、气体导入系统、工件传送系统和控制系统等部分组成。通常使用的真空泵是旋转油泵,高频电源通常用13.56m赫兹的无线电波。
等离子清洗机的运行过程如下:
(1)被清洗的工件送入真空室并加以固定,启动运行装置,开始排气,使真空室内的真空程度达到10pa左右的标准真空度。一般排气时间大约需要2min。
(2)向真空室引入等离子清洗用的气体,并使其压力保持在100pa。根据清洗材质的不同,可分别选用氧气、氢气、氩气或氮气等气体。
(3)在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压,使气体被击穿,并通过辉光放电而发生离子化和产生等离子体。让在真空室产生的等离子体笼罩在被处理工件,开始清洗作业。一般清洗处理持续几十秒到几分钟。
(4)清洗完毕后切断高频电压,并将气体及汽化的污垢排出,同时向真空室内鼓入空气,并使气压升至一个大气压。
等离子体的产生主要是靠电子去撞击中性气体原子,使中性气体原子解离而产生等离子体,但中性气体原子核对其外围的电子有一束缚的能量,我们称它为束缚能,而外界的电子能量必须大于此束缚能,才会有能力解离此中性气体原子,但是,此外界的电子往往是能量不足的,没有解离中性气体原子的能力,所以,我们必须用外加能量的方法给原子电子能量,使电子有利用解离此中性气体原子。要外加能量给电子,简单的方法就是用平行电极板加一直流电压,电子在电极中,会被带正电的电极所吸引而加速,在加速的过程中电子可以累积能量,当电子的能量达到某一程度时,就有能力来解离中性气体原子。
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