UV光解净化设备采用了哪些技术原理？
uv光解净化设备是一种能高效快速去除挥发性有机物、无机物、硫化氢、氨气、硫醇、苯等各种恶臭气体的环保设备。脱臭效果较好，脱臭效果大大超过国家颁布的恶臭污染物排放标准(gb14554-93)。有机废气气体处用排风设备输入到uv光催化除臭设备后，运用高能uv紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质其降解化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通过排风管道排出室外。
uv光解净化设备的技术原理：
本产品利用特制的高能高臭氧uv紫外线光束照射恶臭气体和tio2光催化，催化裂解恶臭气体如：氮、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物h2s、voc类，苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如co2、h2o等。
tio2光催化的催化化性在很大程度上影响光催光反应速率，而tio2光催光活性主要受tio2的晶型和粒径的影响。锐钛型tio2的催化活性高。随着粒径的减少，电子与空穴简单复合的概率降低，光催化活性增大。另外，孔隙率、平均孔径、粒子表面状态，纯度等对其光催化活性也均有一定影响。为了提高光降解效率，对tio2光催化剂进化改性，如研制纳米tio2，制备tio2的复合半导体，金属离子掺杂、染料光敏化等。也可以采用各种先进的手段制备tio2催化剂，以提高光催化剂的活性。
利用高能臭氧uv紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需氧分子结合，进而产生臭氧。uv+o2→o一+o*(活性氧)o+o2→o3(臭氧)，臭氧对有机物具有较强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有较好的清除效果。
利用高能uv光束裂解恶臭气体中细菌分子键，破坏细菌的核酸(dna)，再通过臭氧进行氧化反应，*达到脱臭及杀灭细菌的目的。
关键词：除臭设备 催化剂
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